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電子束蒸發源

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電子束蒸發源

電子束蒸發源

電子束蒸發源

對于使用常用熱蒸發技術非常難蒸發的材料,電子束蒸發是一種有效的蒸發手段.通過高能電子束射向靶材來升高靶材溫度.相比于通常輻射或間接電阻加熱方式,使用這種方式來達到溫度沒有本質的限制。
我司提供的這款電子束蒸發源是由高質量，完全與高真空兼容材料構成，并且可以烘烤至250℃。




應用領域：
表面科學
金屬薄膜接觸腳
MBE摻雜應用

型號參數：
多種不同型號提供不同功率的電子束蒸發源，最高500W，甚至按照客戶需要提供更高功率的電子束蒸發源。
提供Flux電流監控，監控蒸鍍速率。
坩堝容量小，節約靶材，提供最小0.21 mm3，最大1000 mm3的坩堝。
在高真空中，可以烘烤至250℃。
自動化軟件控制；
手動/馬達驅動擋板；
占用腔體空間小
冷卻水流量小
上一個:磁控濺射靶源 下一個:半球型電子能量分析譜

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